化学研磨工程主要包括以下几种:
化学研磨抛光
在一定溶液中,不利用外接电源,靠化学溶液侵蚀作用完成材料表面的平整和光洁过程的工艺称为化学研磨抛光。
该工艺主要利用化学研磨批光液和待处理工件之间形成的化学电池原理对工件进行研磨抛光。
在工件表面粗糙不平处,峰高处相对峰谷处电动势较高,也更加易于与化学研磨抛光液产生激烈的化学反应,即更易于被溶解去除,从而使其峰高值接近难于与溶液发生反应的峰谷,达到平整光滑的研磨抛光目的。
化学蚀刻
通过化学方法去除材料表面的部分原子或分子,以达到所需的形状和尺寸。
化学蚀刻可以用于精确地塑造复杂的几何形状,广泛应用于微电子、微机械等领域。
电化学中的电泳抛光及磨削
在电化学环境中,利用电场和电流的作用,使工件表面发生氧化、还原等化学反应,从而达到抛光和磨削的效果。
电泳抛光利用电泳现象将磨料颗粒沉积在工件表面,通过电流的引导使磨料颗粒对工件进行均匀的抛光。
这些化学研磨工程方法各有特点,适用于不同的材料和加工需求。在选择具体的化学研磨工程方法时,需要综合考虑材料的性质、所需的加工精度和效率等因素。